NanoFrazor Explore
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NanoFrazor Explore

Heidelberg Instruments Nano

O NanoFrazor Explore foi desenvolvido para pesquisadores que desejam ter acesso fácil e flexível a geometrias nanométricas de alta resolução de quase qualquer espécie. Ele se baseia em Litografia de Sondagem Térmica, uma tecnologia desenvolvida no IBM Research Zurich, que usa uma ponta ultra afiada para evaporar um resist termicamente sensível. A ferramenta tem uma ampla gama de aplicações nos campos de nano-fotônica, nano-óptica, nano-magnetismo, nano-eletrônica, plasmônica etc.

O NanoFrazor Explore é projetado especificamente para pesquisa e desenvolvimento, e incorpora todas as características chave da Litografia de Sondagem Térmica, incluindo a modelagem 3D de nanoestruturas com alta resolução e metrologia in situ simultânea. A tecnologia é compatível com processos comuns de transferência de padrões, como gravura iônica reativa, electroplating e lift-off.

O alojamento possui todos os componentes necessários integrados, e pode ser instalado em qualquer laboratório ou sala limpa. Não se requerem vácuo ou altas voltagens, mantendo os requisitos de infraestrutura muito baixos. A ferramenta é fácil de usar. Habilidades básicas para modelagem e para imageamento podem ser aprendidas em um dia.

Características

  • Cantilevers de Sondagem Térmica com pontas ultra afiadas.
  • Nano-litografia 3D
  • Metrologia in situ com resolução sub-nanométrica para overlay, stitching e litografia de ciclo fechado.
  • Refinamento automático e em tempo real dos parâmetros de modelagem.
  • Tempo de fabricação total curto, não requer revelação de resist
  • Unidade independente com poucos requisitos de infraestrutura (não requer vácuo ou alta voltagem)
  • Alto grau de customização e automação
  • Ideal para peças de tamanho de até 4 polegadas
  • Compatibilidade com vários processos de transferência e materiais
  • Troca e calibração de cantilevers em menos de um minuto
  • Aquecimento local de várias superfícies para modelagem patterning química
  • Não se danifica o substrato com partículas carregadas, pode ser usado como extensão ou substituição de uma ferramenta de litografia de feixe de elétrons.
  • Extensão opcional de escrita laser.

Aplicações

O NanoFrazor Explore cobre uma ampla gama de aplicações. Como a litografia por feixe de elétrons (e-beam), ele é adequado para a fabricação de modelos e protótipos de uma variedade de componentes com resoluções muito inferiores a 100 nm.

O NanoFrazor estende a área de aplicação do e-beamsignificativamente. A capacidade 3D única com extrema precisão permite fabricar novos dispositivos e componentes. Além disso, dispositivos e materiais sensíveis não se danificam pelo feixe de alta energia durante o processo de modelagem do NanoFrazor. Isto é crucial para o desenvolvimento e a melhora de nanodispositivos futuros.

Nano-óptica: Elementos ópticos 3D, como placas de fase espiral, microlentes ou hologramas.

A óptica na escala nanométrica desempenha um papel importante em campos desde as ciências fundamentais até as aplicações da nanotecnologia, já que a óptica difrativa, refrativa ou híbrida frequentemente contém padrões de escala nano. Há aplicações desde séries de microlentes, filtros de polarização e lentes de Fresnel até a compressão de pulsos de laser ultracurtos, hologramas para inspeção de qualidade, recursos de segurança e dispositivos astronômicos avançados.

O NanoFrazor, com suas capacidades 3D únicas, é a ferramenta ideal para criar perfis de superfície de resolução nanométrica suaves e arbitrários, que são necessários para haver novas aplicações ópticas da escala nanométrica.

Especificações

Gabinete

  • Unidade independente e auto concisa, que cabe em qualquer laboratório ou sala limpa
  • Isolação acústica e vibracional
  • Atmosfera monitorada e controlada
  • Acesso fácil por três lados
  • Microscópio óptico integrado para monitorar amostra e cantilever
  • Design aberto acessível e extensível para atualizações futuras, e novas funcionalidades e opcionais.

Mecânica

  • Dois sistemas de posicionamento independentes com 3 eixos cada, permitindo posicionamento de alta velocidade com alta precisão
  • Scanner de piezo ultra rígido único e de ciclo fechado, com sensores de baixo ruído e banda larga.
  • Controle avançado para precisão nanométrica à velocidade de varredura de muitos mm/s.
  • Porta-cantiléver magnético rígido e leve
  • Microscópio óptico para pesquisa, visão geral e alinhamento inicial.

Plataforma de ajuste inicial

 

Faixa X, Y

10 cm x 10 cm

Faixa Z

10 mm

Resolução do sensor de posição

1 nm

Precisão da Posição (absoluto)

1 µm/m

Scanners de piezo de alta velocidade

 

Faixa X, Y

75 µm x 75 µm

Faixa Z

20 µm

 

Software

  • Interface gráfica de usuário completa, voltada ao fluxo de trabalho e robusta
  • Ferramenta embutida IGOR Pro, para criação de gráficos e análise de dados.
  • Poderosa Biblioteca para programação de scripts
  • Gerenciamento de dados projetado para atender às necessidades do usuário (parâmetros padrões, preferências do usuário, salvamento, exportação, registro e acesso direto aos dados etc.)
  • Importação e modificação de vários formatos de arquivo de layout
  • Controles periféricos: luz, válvulas, temperatura e humidade.
  • Visão ao vivo, pela câmera do microscópio, da amostra e do cantilaver.
  • Atualizações regulares e sem custo adicional

Eletrônicos

Eletrônicos dedicados, blindados e de baixo ruído com:

  • Processador de 1 GHz
  • Gerador de padrões de 10 Mhz; e
  • DACs de 18 bits para controlar scanner e cantilever