Resists Termossensíveis
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Resists Termossensíveis

Heidelberg Instruments Nano

Há muitos materiais que podem ser modificados por uma ponta de sonda aquecida. Mas, para a tecnologia NanoFrazor, a escolha do material do resist desempenha um papel crucial.

Poliftalaldeído (PPA)

Recomendamos usar poliftalaldeído como resist padrão devido às suas excepcionais propriedades e sua ampla aceitação na comunidade. PPA é um chamado polímero desencadeante auto-amplificado que se decompõe instantaneamente em seus monômeros voláteis mediante um acionamento externo, como um pulso de calor. O desencadeamento é uma reação endotérmica que restringe o espalhamento do calor no resist, permitindo padronização de alta resolução. Os produtos da decomposição evaporam imediatamente sem re-deposição no substrato. PPA padronizado não requer desenvolvimento de substâncias químicas úmidas e, devido a sua alta temperatura de transição vítrea, ele pode ser usado diretamente como máscara de gravura com alta estabilidade mecânica.

A SwissLitho tem forte perícia com camadas de transferência para transferência de padrões usando PPA. Além disso, dentro da estrutura do Eurostars project: PPA-Litho estamos pesquisando ativamente novas variações de PPA para aplicações específicas.

Características

  • Aplicabilidade de revestimento de alto spin: Filmes muito achatados, suaves e finos são possíveis
  • Resist de tom positivo, áreas “expostas” são removidas
  • Não requer desenvolvimento de substâncias químicas úmidas, também demonstrado para litografia laser, e-beam ou raio x
  • Alta estabilidade mecânica, alta temperatura de transição vítrea
  • Padronização NanoFrazor Eficiente: reação de decomposição / desencadeamento auto-amplificada da cadeia de polímeros
  • Alta resolução possível: Decomposição endotérmica restringe o espalhamento do calor
  • Evaporação imediata de produtos voláteis da decomposição à temperatura ambiente
  • Sem re-deposição mensurável no substrato
  • Adequado como máscara para vários métodos de transferência de padrões

     

Molécula individual de ftalaldeído

Protoresist de Poliftalaldeído (PPA)

Ftalaldeído Cíclico

Especificações

Preparação de Filme

Revestimento Spin

Solventes

Anisol (padrão), Cicloexanona

Soft bake

90 °C por 3 min

Temperatura de decomposição

~ 140 °C

Temperatura de Transição Vítrea

> 120 °C

Faixa de espessura de filme

5 - 200 nm

Rq de Aspereza

< 0.3 nm

Resolução Lateral (half-pitch demonstrado)

8 nm

Resolução Vertical (tamanho do passo, demonstrado)

1 nm

Tempo mínimo de aquecimento por pixel (demonstrado)

1 µs

Taxa de Gravura (RIE com CHF3)

5 nm/min (15 nm/min SiO2)