Laboratório NanoSAM da Scienta Omicron
Ver em 
get a quote

Laboratório NanoSAM da Scienta Omicron

Scienta Omicron

Análise Química com Máxima Resolução

NanoSAM Lab

Análise Química com Máxima Resolução

Coluna de Elétrons UHV Gemini:

  • A mais alta resolução espacial
  • O menor spot de e-beam
  • Performance única de baixa energia
  • SEM eficiente com in-lens SED

Analisador de Elétrons NanoSAM: 

  • Resolução de energia variável
  • Sensibilidade excelente, detecção multicanais

Manipulação de Amostra:

  • Tamanho de amostra flexível
  • Temperatura de amostra variável (50-500K) 
  • Inclinação de amostra ±60°

Resolução Máxima

O Laboratório NanoSAM é a melhor ferramenta para a análise de estruturas pequenas. Movido pela performance única da coluna de elétrons UHV Gemini, ele garante resolução incomparável, inferior a 5 nm em Microscopia de Varredura Auger (SAM) e melhor que 3 nm em SEM.

Em contraste com outras ferramentas Auger, a altíssima resolução não está só disponível à energia padrão de feixe, de 20 keV, mas até em 5 keV a resolução permanece inferior a 10 nm. Isto permite realizar operações em uma faixa de parâmetros em que as seções transversais Auger são altas e bem-documentadas para análise quantitativa.

Análise Complementar

O laboratório NanoSAM é feito sob medida para a aquisição eficiente de dados em amostras rotineiras, ao mesmo tempo que mantém a flexibilidade para operar em faixas de parâmetros atípicas em materiais desafiadores. Além disso, o Laboratório NanoSAM pode ser estendido com técnicas adicionais para uma análise complementar das características chave da amostra, por exemplo, a estrutura cristalina (EBSD) ou a estrutura de domínio magnético (SEMPA). Outras características do Laboratório NanoSAM: Perfilamento em Profundidade e Neutralização de Carga, FIB, EBL.

Detalhes

Medições Auger de alta magnificação exigem muita estabilidade mecânica da plataforma de amostra. Movido pela perícia da Omicron em SPM, a nova plataforma NanoSAM representa uma plataforma extremamente estável e de baixa deriva com uma nova tecnologia não-magnética de drive UHV e rotação Zalar eucêntrica por uma sequência de empilhamento única de motores Z-φ-XY.

Além disso, os tempos de medição Auger podem facilmente superar vários minutos – no caso de mapas elementais, até horas. Uma correção de deriva eletrônica tecnicamente madura é, portanto, indispensável para acessar um nível de performance adequado para estruturas pequenas ou para concentrações elementais muito baixas. Com base na abordagem convencional, que emprega correlação de imagens sequenciais SEM e correção de feixe de elétrons em passos, a nova Correção de Deriva Dinâmica incorpora um vetor de deriva contínuo.

Esta combinação fornece um rastreamento do feixe de elétrons quase contínuo, com valores de deriva excepcionais, inferiores a 10 nm em 12 horas.


Coluna UHV Gemini

A Coluna UHV Gemini patenteada é a fonte de elétrons cum a mais alta resolução disponível para operação UHV. Projetada para UHV real < 1x10-8 Pa, a coluna é completamente bakeable a 180 °C e opera sem qualquer saída mensurável de gás: uma necessidade para evitar a contaminação durante a pesquisa de muitos materiais.

O design da Colina UHV Gemini é o resultado de uma colaboração entre a Omicron e ZEISS NTS, empregando a mesma óptica eletrônica que se usa nos produtos ZEISS Gemini SEM. Tanto o software SmartSEM de ponta e a eletrônica de controle da Gemini são produtos padrão da Zeiss NTS, incorporados também na versão UHV.

O software de controle de Auger é integrado ao software SmartSEM. Para o processamento eficiente de dados, um software de padrões industriais está disponível. Dados também podem ser salvos em formatos como VAMAS ou ASCII


Neutralização de Carga e Perfilamento em Profundidade

A análise de materiais isolantes é frequentemente impossível com AES, ou ao menos, é uma tarefa desafiadora. A fonte de pulverizações FIG 05 permite ao operador compensar cargas negativas induzidas pelo feixe de elétrons com um dilúvio de íons positivos pouco energéticos. Isto permite a análise de amostras que outrora não poderiam ser imageadas sob condições estáveis. O FIG 05 também pode ser usado para perfilamento em profundidade com uma energia de feixe na faixa entre poucas centenas de eV sobre amostras delicadas até 5 keV com alta densidade de corrente para perfilamento rápido.



Técnicas Opcionais

  • XPS e SAM combinados para análise in situ da composição elemental e funcionalidade química
  • Difração de Retroespalhamento de Elétrons (EBSD) para análise in situ da estrutura cristalina junto com a composição elemental
  • Feixe de Íons Focado (FIB) para ajuste da estrutura da amostra (Travessa UHV com tamanho de spot < 10 nm)
  • SEM com Análise de Polarização (SEMPA) para imageamento da estrutura de domínio magnético.
  • Litografia de Feixe de Elétrons (EBL) sob as mais limpas condições (UHV < 1*10-9) para pesquisa básica de novos materiais de resists e estruturas pequeníssimas (também para Deposição Induzida por Feixe de Elétrons (EBID)).