MicroWriter ML3 Mesa
Durham Magneto Optics
O MicroWriter ML®3 Mesa é uma máquina de litografia óptica compacta, de alta performance, de baixo custo e de escrita direta, projetada para oferecer custo-benefício sem precedentes em uma pequena área do laboratório.
Medindo apenas 70 cm x 60 cm em sua base, ele fica sobre um banco ou mesa de laboratório padrão e se conecta a um laptop. Seu único requisito é uma tomada padrão. Um invólucro que exclui a luz, com interlock de segurança, permite que seja usado tanto em um ambiente de laboratório aberto quanto em uma sala limpa. O software baseado em Windows® fácil de usar implica que a maioria das exposições podem ser configuradas e iniciadas com apenas alguns cliques do mouse. Três tamanhos mínimos de traço (0.6 µm, 1 µm e 5 µm) podem ser selecionados automaticamente via software. Isto permite que partes não críticas da exposição sejam realizadas rapidamente ao tamanho mínimo de 5 µm enquanto se mantém a escrita de alta resolução para as partes críticas. O MicroWriter ML®3 Mesa também possui um perfilômetro de superfície óptica e uma ferramenta de inspeção de wafer automatizada para examinar estruturas fabricadas.
Características e Especificações
- Área de escrita máxima: 149 mm x 149 mm
- Tamanho de wafer máximo: 155 mm x 155 mm x 7 mm
- Tamanho mínimo de traço na área total de escrita: 0.6 µm, 1 µm e 5 µm
- Seleção automática de resolução via software – não se requer mudança manual da lente.
- Fonte de luz semicondutora de vida longa de 405 nm adequada para resists de banda larga g-line e h-line positivos e negativos (ex. S1800, ECI-3000, MiR 701) Fontes de luz de 385 nm e 365 nm disponíveis para substituição, adequadas para photoresists g-, h- e i-line. (ex. SU-8)
- Interferômetro XY com resolução de 15 nm para controle de movimentos preciso.
- Velocidade de Escrita: até 17 mm2/minuto (tamanho de traço 0.6 µm), 50 mm2/minuto (tamanho de traço 1 µm) e 180 mm2/minuto (tamanho de traço 5 µm), permitindo que uma área típica de 50 mm x 50 mm, contendo áreas críticas e não críticas, seja exposta em menos de 30 minutos.
- Sistema de foco automático usando luz amarela com laser de rastreio em superfície em tempo real – sem tamanho mínimo de wafer.
- Câmera de microscópio óptico de conjugado infinito de alta qualidade com lente x3 de objetivo asférico e lente x10 e x20 de objetivo planar, e iluminação de luz amarela para alinhamento aos marcadores litográficos no wafer. (precisão de alinhamento ±1 µm 3σ).
- Mudança automática entre magnificações do microscópio via software – não se requer mudança manual da lente. Zoom digital x4 adicional pode ser selecionado via software.
- Modo de exposição em escala de cinza para padronização tridimensional (255 níveis de cinza)
- API de software para controle e interface externos.
- Grid endereçável mínimo de 100 nm; resolução de plataforma de amostra de 15 nm.
- Formatos de arquivo compatíveis: CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF.
- Ferramenta automática para centragem do wafer baseada em laser
- Analisador de superfície óptica bidimensional embutido (resolução de espessura de 200 nm) para examinar resists expostos, camadas depositadas, gravuras, e outros passos de processos MEMS.
- Ferramenta de inspeção automática de wafer, permitindo que cada dado em um wafer seja imageado.
- Dimensões externas: 700 mm (l) x 700 mm (c) x 700 mm (a), excluindo o computador.
- Invólucro que exclui luz com interlock de segurança.
- Projetado para uso em desktop – não requer mesa óptica
- Vem com software de controle baseado em Windows® fácil de usar.
- Vem com software open source para design de máscaras KLayout (klayout.de)
- Vem com PC Windows® 10 64-bit pré-configurado e monitor para instalação plug-and-play.
- Vem com todos os cabos
- Preço extremamente competitivo para orçamentos de universidades e de pesquisa e desenvolvimento industrial.
- Pode ser atualizado posteriormente ao MicroWriter ML®3 Pro para melhor performance.
- Marcado por CE e em conformidade com EN-61010
- Requerimento de energia monofásica 4A, 90-260 VAC, 50-60Hz
Aplicações
- Microeletrônica e semicondutores
- Spintrônica
- MEMS / NEMS
- Sensores
- Microfluídica e lab-on-a-chip
- Nanotecnologia
- Ciência de Materiais
- Grafeno e outros materiais bidimensionais
Opções
- Substituir fonte de luz de 405 nm por 385 nm
- Substituir fonte de luz de 405 nm ou 385 nm por 365 nm
- Software Clewin
- Alinhador de Máscara Virtual
- Aumentar espessura máxima da amostra para 15 mm
- Aumentar viagem XY máxima para 200 mm – igual ao Pro
- Módulo de compensação de temperatura – igual ao Pro
- 1 ano de garantia adicional
- Fazer upgrade para modelos mais avançados