MicroWriter ML3 Baby Plus
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MicroWriter ML3 Baby Plus

Durham Magneto Optics

O MicroWriter ML®3 Baby Plus é uma máquina de litografia óptica compacta, de alta performance, de baixo custo e de escrita direta, projetada para oferecer custo-benefício sem precedentes em uma pequena área do laboratório.

Medindo apenas 70 cm x 60 cm em sua base, ele fica sobre uma bancada ou mesa de laboratório padrão e se conecta a um laptop. Seu único requisito é uma tomada padrão. Um invólucro que exclui a luz, com interlock de segurança, permite que seja usado tanto em um ambiente de laboratório aberto quanto em uma sala limpa. O software baseado em Windows® fácil de usar implica que a maioria das exposições podem ser configuradas e iniciadas com apenas alguns cliques do mouse. Dois tamanhos mínimos de traço (1 µm e 5 µm) podem ser selecionados automaticamente via software. Isto permite que partes não críticas da exposição sejam realizadas rapidamente ao tamanho mínimo de 5 µm enquanto se mantém a escrita de alta resolução para as partes críticas. O MicroWriter ML®3 Baby Plus também possui um perfilômetro de superfície óptica e uma ferramenta de inspeção de wafer automatizada para examinar estruturas fabricadas.

Características e Especificações

  • Área máxima de escrita: 149 mm x 149 mm
  • Tamanho de wafer máximo: 155 mm x 155 mm x 7 mm
  • Tamanho mínimo de traço na área total de escrita: 1 µm e 5 µm
  • Fonte de luz semicondutora de vida longa de 405 nm adequada para resists de banda larga g-line e h-line positivos e negativos (ex. S1800, ECI-3000, MiR 701) Fontes de luz de 385 nm e 365 nm disponíveis para substituição, adequadas para photoresists g-, h- e i-line. (ex. SU-8)
  • Interferômetro XY com resolução de 15 nm para controle preciso de movimentos.
  • Velocidade de Escrita: até 50 mm2/minuto (tamanho de traço 1 µm) e 180 mm2/minuto (tamanho de traço 5 µm), permitindo que uma área típica de 50 mm x 50 mm, contendo áreas críticas e não críticas, seja exposta em menos de 30 minutos.
  • Sistema de foco automático usando luz amarela com laser de rastreio em superfície em tempo real – sem tamanho mínimo de wafer.
  • Câmera de microscópio óptico de conjugado infinito de alta qualidade com lente x3 de objetivo asférico e lente x10 de objetivo planar, e iluminação de luz amarela para alinhamento aos marcadores litográficos no wafer. (precisão de alinhamento ±1µm 3σ).
  • Mudança automática entre magnificações do microscópio via software – não requer mudança manual da lente. Zoom digital x4 adicional pode ser selecionado via software.
  • Modo de exposição em escala de cinza para exposição tridimensional (255 níveis de cinza)
  • API de software para controle e interface externos.
  • Grid endereçável mínimo de 200 nm; resolução de plataforma de amostra de 15 nm.
  • Formatos de arquivo compatíveis: CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF.
  • Ferramenta automática para centragem do wafer baseada em laser
  • Dimensões externas: 700 mm (l) x 700 mm (c) x 700 mm (a), excluindo o computador.
  • Invólucro que exclui luz com interlock de segurança.
  • Projetado para uso em desktop – não requer mesa óptica
  • Acompanha software de controle baseado em Windows® fácil de usar.
  • Acompanha software open source para design de máscaras KLayout (klayout.de)
  • Acompanha PC Windows® 10 64-bit pré-configurado e monitor para instalação plug-and-play.
  • Acompanha todos os cabos
  • Preço extremamente competitivo para orçamentos de universidades e de pesquisa e desenvolvimento industrial.
  • Pode ser atualizado posteriormente ao MicroWriter ML®3 Mesa ou Pro para melhor performance.
  • Certificação CE e em conformidade com EN-61010
  • Requerimento de energia monofásica 4A, 90-260 VAC, 50-60Hz

Aplicações

  • Microeletrônica e semicondutores
  • Spintrônica
  • MEMS / NEMS
  • Sensores
  • Microfluídica e lab-on-a-chip
  • Nanotecnologia
  • Ciência de Materiais
  • Grafeno e outros materiais bidimensionais

Opções

  • Substituir fonte de luz de 405 nm por 385 nm
  • Substituir fonte de luz de 405 nm ou 385 nm por 365 nm
  • Software Clewin
  • Alinhador de Máscara Virtual
  • Aumentar espessura máxima da amostra para 15 mm
  • Aumentar viagem XY máxima para 200 mm – igual ao Pro
  • Módulo de compensação de temperatura – igual ao Pro
  • 1 ano de garantia adicional
  • Fazer upgrade para modelos mais avançados