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MicroWriter ML3 Baby
Durham Magneto Optics
A MicroWriter ML®3 Baby é uma máquina compacta de litografia óptica de escrita direta de alto desempenho, projetada para oferecer um valor sem precedentes em um espaço de laboratório pequeno. Também possui uma excelente pegada ambiental: o consumo de energia da máquina, mesmo durante a exposição, é comparável ao de um laptop. Medindo apenas 70cm x 70cm em sua base, o MicroWriter ML®3 Baby se encaixa em uma bancada ou mesa de laboratório padrão e se conecta a um laptop fornecido. Seu único requisito de serviço é uma tomada elétrica padrão. Um gabinete com exclusão de luz e intertravamento de segurança permite que seja usado igualmente bem em um ambiente de laboratório aberto ou em uma sala limpa. Um software baseado em Windows® fácil de usar significa que a maioria das exposições pode ser configurada e iniciada com apenas alguns cliques do mouse. Um palco XY controlado por interferômetro permite sobreposição precisa em toda a placa. Um mandril de fricção cuidadosamente otimizado permite que amostras e substratos delicados (sem limitação de tamanho mínimo) sejam usados. O sistema usa por padrão autofoco totalmente óptico, que funciona bem em grandes wafers, bem como em amostras pequenas ou não convencionais.Aplicações
• Microeletrônica e semicondutores• Spintrônica
• MEMS/NEMS
• Sensores
• Microfluídica e laboratório em chip
• Nanotecnologia
• Ciência dos materiais
• Grafeno e outros materiais bidimensionais
Recursos e Especificações
• Área máxima de escrita de 149mm x 149mm.• Tamanho máximo do wafer de 155mm x 155mm x 7mm.
• Tamanho mínimo do recurso de 1µm em toda a área de escrita.
• Fonte de luz semicondutora de 405nm de longa duração, adequada para fotorresistentes positivos e negativos de banda larga, g e h-line (por exemplo, S1800, ECI-3000, MiR 701). Fontes de luz de substituição de 385nm e 365nm disponíveis como opção, adequadas para fotorresistentes g, h e i-line (por exemplo, SU8). Opção de comprimento de onda duplo (fonte de luz de 405nm e fonte de luz de 365nm, selecionável por software) disponível para melhor desempenho em fotorresistentes g, h e i-line.
• Interferômetro XY com resolução de 15nm para controle de movimento preciso.
• Velocidade de escrita extremamente rápida - até: 50mm2/minuto (tamanho mínimo do recurso de 1µm). Isso permite que uma área típica de 50mm x 50mm seja exposta em menos de 1 hora.
• Sistema de autofoco óptico usando luz amarela com módulo de rastreamento de superfície em tempo real – sem tamanho mínimo de wafer.
• Microscópio óptico de conjugado infinito de alta qualidade com lente objetiva planacromática Olympus x10 e iluminação de luz amarela para alinhamento com marcadores litográficos no wafer (precisão de alinhamento ±2,0µm 3?).
• Zoom digital adicional de x4 pode ser selecionado no software.
• Modo de exposição em escala de cinza para padronização tridimensional (até 255 níveis de cinza).
• API de software para interfaceamento e controle externo.
• Grade endereçável mínima de 100nm. Resolução do estágio de amostra de 15nm.
• Formatos de arquivo aceitáveis: CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF; Oasis, DXF, Gerber RS-274X aceitáveis via conversão KLayout.
• Ferramenta de centralização automática de wafer.
• Ferramenta de autocalibração que permite aos usuários verificar e corrigir a calibração.
• Códigos de barras 2D podem ser gerados automaticamente através de software para exposições. O software pode então identificar os padrões de código de barras desenvolvidos e ler o conteúdo.
• Gabinete com exclusão de luz com intertravamento de segurança.
• Software de controle baseado em Windows® fácil de usar fornecido.
• Fornecido com software de design de máscara de código aberto KLayout (www.klayout.de).
• Fornecido com PC Windows® 10/11 de 64 bits pré-configurado com monitor, teclado e mouse para instalação "plug and play".
• Inclui instalação no local por técnico de serviço treinado.
• Preço extremamente competitivo para orçamentos de P&D universitários e industriais.
• Pode ser atualizado posteriormente para MicroWriter ML® 3 Baby Plus, Mesa ou Pro para maior desempenho.
• Requisito de energia monofásica de 90-260 VAC, 50-60Hz, 4A.
• Dimensões externas: 70cm (l) x 70cm (p) x 75cm (a), excluindo o computador.
• Com marcação CE e em conformidade com EN-61010.
Opções
• Substituir a fonte de luz de 405nm por 385nm• Substituir a fonte de luz de 405nm ou 385nm por 365nm
• Software Clewin
• 1 ano de garantia adicional
• Atualizar o sistema para modelos mais avançados
Exemplos de estruturas fabricadas
