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MicroWriter ML3 Pro

Durham Magneto Optics

O MicroWriter ML® 3Pro é nosso carro-chefe, uma máquina de litografia óptica de escrita direta de alta performance, que foi projetada para oferecer custo-benefício sem precedentes e uma área laboratorial pequena. Posicionado em sua própria mesa óptica de isolamento de vibrações, seu único requerimento é uma tomada padrão. Um invólucro compensador de temperatura e exclusor de luz com interlocks de segurança permite que ele seja usado tanto em um ambiente de laboratório aberto quanto em uma sala limpa. O software baseado em Windows® fácil de usar implica que a maioria das exposições podem ser configuradas e iniciadas com apenas alguns cliques do mouse. Quatro tamanhos mínimos de traço (0.6 µm, 1 µm, 2 µm e 5 µm) podem ser selecionados automaticamente via software. Isto permite que partes não críticas da exposição sejam realizadas rapidamente enquanto se mantém a escrita de alta resolução para as partes críticas. Um tamanho de traço mínimo adicional, de 0.4 µm, está disponível como opção. O MicroWriter ML®3 Pro também possui um perfilômetro de superfície óptica e uma ferramenta de inspeção de wafer automatizada para examinar estruturas fabricadas. Uma câmera de alinhamento no lado posterior, para alinhamento de wafers duplamente polidas está disponível como opção.

Características e Especificações

Área máxima de escrita: 195 mm x 195 mm
Tamanho máximo de wafer: 230 mm x 230 mm x 15 mm
Tamanho mínimo de traço na área total de escrita: 0.6 µm, 1 µm, 2 µm e 5 µm, com mínimo de 0.4 µm disponível como opção.
Seleção automática do tamanho mínimo de traço via software – não requer troca manual da lente.
Fonte de luz semicondutora de vida longa de 385 nm adequada para photoresists de banda larga g-, h- e i-line positivos e negativos (ex. S1800, ECI-3000, MiR 701, SU-8). Fonte de luz de 365 nm para substituição disponível como opção, para melhor performance com o photoresist SU-8.
Interferômetro XY com resolução de 1 nm para controle de movimentos preciso.
Velocidade de Escrita: até 17 mm²/minuto (tamanho de traço 0.6 µm), 50 mm²/minuto (tamanho de traço 1 µm), 120mm²/minuto (tamanho de traço 2 µm) e 180 mm²/minuto (tamanho de traço 5 µm), permitindo que uma área típica de 50 mm x 50 mm, contendo áreas críticas e não críticas, seja exposta em menos de 30 minutos; ou que uma área típica de 100 mm x 100 mm seja exposta, com um tamanho mínimo de traço de 2 µm, em menos de 2 horas.
Sistema de foco automático usando luz amarela com laser de rastreio em superfície em tempo real – sem tamanho mínimo de wafer.
Microscópio óptico de conjugado infinito de alta qualidade com x3 lente objetiva asférica, e lente objetiva acromática planar Olympus x5, x10 e x20, e iluminação de luz amarela para alinhamento a marcadores litográficos no wafer (precisão de alinhamento de (±0.5 µm 3σ). Lente objetiva x50 acromática planar Olympus disponível como opção.
Mudança automática entre magnificações do microscópio via software – não se requer mudança manual da lente. Zoom digital x4 adicional pode ser selecionado via software.
Modo de exposição em escala de cinza para padronização tridimensional (255 níveis de cinza)
API de software para controle e interface externos.
Grid endereçável mínimo de 100 nm; resolução de plataforma de amostra de 4 nm.
Formatos de arquivo compatíveis: CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF.
Ferramenta automática para centragem do wafer baseada em laser
Analisador de superfície óptica bidimensional embutido (resolução de espessura de 100 nm) para examinar resists expostos, camadas depositadas, gravuras, e outros passos de processos MEMS.
Ferramenta de inspeção automática de wafer, permitindo que cada dado em um wafer seja imageado.
Modo alinhador de máscara virtual, em que o padrão a ser exposto é exibido sobre a imagem do microscópio em tempo real, permitindo que a máquina seja usada como um alinhador de máscaras tradicional.
Manipulação de wafer/chip múltipla, permitindo que padrões de exposição diferentes e coordenadas de alinhamento sejam fornecidas para várias wafers ou chips no chuck. Usado para expor múltiplas camadas de amostra do usuário de um dia para o outro.
Inclui mesa óptica isoladora de vibrações passiva com montagem integrada de monitor e teclado.
Invólucro exclusor de luz com interlock de segurança e compensação de temperatura para ±0.25 C
Vem com software de controle baseado em Windows® e fácil de usar
Vem com software para design de máscaras Clewin 5.
Vem com PC Windows® 10 de 64 bits pré-configurado, com monitor, teclado e mouse.
Inclui instalação no local por um técnico treinado
Preço extremamente competitivo para orçamentos de universidades e de pesquisa e desenvolvimento industrial.
Pode ser atualizado posteriormente ao MicroWriter ML®3 Pro para melhor performance.
Marcado por CE e em conformidade com EN-61010
Requerimento de energia monofásica 4A, 90-260 VAC, 50-60Hz
Dimensões 90 cm (w) x 75 cm (d); altura 153 cm (incluindo mesa óptica)